105年3月號 道 法 法 訊 (287) |
DEEP & FAR |
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日本專利新聞— 2015年版專利法修正概要 |
尹懷哲 專利二組副主任 •中原大學心理學學士 •佛光大學政治研究學所碩士 |
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日本國會在2015年7月3日成功地通過部分修正專利法之法案,並於2015年7月10日公布第55號法令。此修正案將於公布日起算一年內由行政命令所訂之日施行。日本特許廳已公告新法將於2016年4月1日施行[1]。 主要修改涉及(1)重新檢討職務發明制度[2];(2)專利費和其他費用的修改;(3)修改關於正式加入專利法條約(Patent Law
Treaty)和商標法新加坡條約(Singapore Treaty on the Law of
Trademarks)的條款。 (當修正案施行,新官費生效) 專利:在獲准專利後,專利年費每年將減少約10%。詳情如下:
商標:商標註冊費要減少約25%,商標延展註冊費將減少約20%。詳情如下: =註冊費(在最初獲准註冊)=
=延展註冊費=
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