104年1月號 道 法 法 訊 (273)

DEEP & FAR

 

 

 
 
在日本專利審查實務中
發明單一性之缺乏所造成的潛在問題：
如何避免對獨立請求項之不必要的限制

 

陳怡岑 專利工程師

•      中原大學化學系

•      淡江大學化學工程與材料工程學系研究所

•      WARWICK UNIVERSITY Master of Science in Analytical science

 

 

被核駁之請求項第4-7項以及第19-12項係由於單一性之缺乏而被核駁，因為他們不包括來自請求項第1項之所述序列的附屬關係，且在被實體核駁與形式核駁之請求項間沒有STF。該審查員也定義了所述STF為請求項第1、2、3及8項的結合限制，以及要求當回應該審查意見書時，所有請求項必須被修正以便於包括請求項第1、2、3及8項之所述限制，以符合日本專利法第17之一條第4項之要求。

　　在回應所述第一次審查意見書中，先前的請求項第1-12項係被下列請求項第1’-7’項所替代：

　　1’.  一種用於加工一基材的裝置，其包括：

        用於藉由一加工液體來加工所述基材的裝置；

        用於所述液體之一儲存器；

        用於循環所述液體之第一裝置；

        用於吸收一金屬離子第二之裝置；以及

        用於循環所述液體的裝置。

    2’.  如申請專利範圍第1’項所述裝置，還包括一控制器。

    3’.  如申請專利範圍第2’項所述裝置，還包括用於計算所述基材數目的裝置。

    4’.  如申請專利範圍第1’項所述裝置，還包括用於偵測所述金屬離子之濃度的裝置。

    5’.  如申請專利範圍第2’或4’項所述裝置，還包括用於提供分解所述液體之裝置以及用於回收所述分解之液體之裝置。

    6’.  如申請專利範圍第5’項所述裝置，還包括用於提供一洗滌液體的裝置以及用於回收所述洗滌液體的裝置。

　　7’.  如申請專利範圍第1’-6’項所述裝置，...