103年10月號 道 法 法 訊 (270) |
DEEP & FAR |
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智慧財產法院應否革新、廢除或改名(七) |
· 交大航技系輪機組畢業 · 輪機高考及格 · 輪機甲種特考及格 · 台大法律系畢業 · 律師高考及格 · 東吳法碩甲組碩士 · 創立道法法律事務所 |
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九、查，事實真相如何？應無出入之空間，亦無自由心證之餘地。乃二審準備程序期間， 法官完全依己意臆測系爭專利為何，而不依事實或理解上訴人之陳述或解說。舉例而 言，橫向液位差之緣故與理由，出因水刀之藥液供給不及於中央反應槽側邊之故，乃原 審法院自作聰明之餘，竟以不足之技術背景知識、突發奇想自命為難堪之發明人，而背 乎發明或技術原理與事實，遂於判決中胡亂認定「系爭專利…是以中央與側邊液位高度 之落差，可增進槽體內液體之流動(按，此與系爭專利動作原理無涉)，進而促進銅錫置 換之反應」，而終與事實及技術理論相枘鑿。試問人間幾多荒唐，能勝於此？ 十、專利侵害鑑定要點第31頁(一)之1規定：「發明(或新型)專利權範圍，應以公告之 說明書或經更正公告之說明書中所載之申請專利範圍為準。」專利侵害鑑定要點第31 頁(一)之3亦規定：「專利權範圍主要取決於申請專利範圍中之文字，若申請專利範圍 中之記載內容明確時，應以其所載之文字意義及該發明所屬技術領域中具有通常知識者 所認知或瞭解該文字在相關技術中通常所總括的範圍予以解釋。」智慧財產法院100年 度民專上更(一)字第4號民事判決亦謂：「解釋申請專利範圍是以其中所載之文字為核 心，探究該新型所屬技術領域中具有通常知識者於申請專利時所認知或瞭解該文字之字 面意義(plain
meaning)，除非申請人在說明書中已賦予明確的定義，若申請人無明顯意圖 賦予該文字其他意義，該文字被推定為具有通常知識者所認知或瞭解的通常習慣意義 (ordinary and
accustomed meaning )。」專利侵害鑑定要點第30頁第三章第一節規定：「三、解釋申請專利範圍之證據(一)用於解釋申請專利範圍之證據包括內部證據與外 部證據。若內部證據足使申請專利範圍清楚明確，則無須考慮外部證據。若外部證據與 內部證據對於申請專利範圍之解釋有衝突或不一致者，則優先採用內部證據。」 依上述專利侵害鑑定要點之規定及實務見解，系爭專利請求項1既僅記載「於該第一槽 體內形成一液位差」之文字，其記載相當明確，並未將該「液位差」限定於連續液面， 且依說明書之記載整體觀察，上訴人亦顯無意圖將該「液位差」限定於連續液面，則系 爭專利請求項1之「液位差」應以其所載之文字意義及該發明所屬技術領域中具有通常 知識者所認知或瞭解該文字在相關技術中通常所總括的範圍予以解釋，而解釋為「二液 位高度之落差」，其並可包括「具有連續液面之液位差」及「不具有連續液面之液位差」， 所謂「具有連續液面之液位差」係指第一槽體中央液位與中央兩側任何位置之液位所形 成具有連續液面之高度差，所謂「不具有連續液面之液位差」則係指第一槽體中央液位 與「第一槽體」內兩側任何位置之液位因隔板或其他原因所形成不具有連續液面之高度 差。雖系爭專利第三圖曾繪有一條連續液位示意圖，但說明書未嘗片言隻字觸及，且依 發明動作原理，A點與B點間必然連續；但B點與C點間因有隔板阻隔，必有一液位陡 降。如原審法院就此上訴人所陳述有所疑問，亦應善體前揭智慧財產法院100年度民專 訴字第93號判決及專利侵害鑑定要點「而用於解釋申請專利範圍之證據包括內部證據 與外部證據」指引，以求其真義。查，有如上訴人原審所提出之附圖一及附圖三所示， 不論上訴人或被上訴人所實施之裝置皆有隔板，而此隔板乃實施系爭專利所必然。中央 液位乃由隔板拘限而形成，而回收側區則位於第一槽體內隔板之外側。上訴人或被上訴 人所實施之裝置即是無比強烈之外部證據，乃原審就此上訴人之一再辯明、並就此強烈 外部證據不屑一顧，究係為何？ 十一、二審判決書記載：「預浸槽下方有一「副槽」，可接納預浸槽中排出之化學錫藥 液，另於其外側設有用以將預浸槽溢流之藥液導入副槽之「斜槽，即兩造所稱之回收側 區。」實亦已是認前述事實，蓋系爭專利請求項1之第一槽體與系爭裝置中央反應槽(即 預浸槽)兩者之兩側均依序存有隔板，而隔板外側有齒輪，且隔板外側俱為回收側區， 實童稚能辨。乃原審基於特殊不可告人之原因（未於判決理由中論列），將相對等之兩 者視為決然不同，其中究係出因何故？又被上訴人於原審102年8月6日之準備程序中 亦已明確自承系爭裝置之「斜槽」相當於系爭專利請求項1之「回收側區」。當日之準 備程序筆錄記載：「法官問：技審官有無問題詢問兩造？技審官問：請兩造說明「回收 側區」是否為勘驗筆錄所載之斜槽？上訴人訴訟代理人蔡清福律師答：應該是，就是有 斜板之處。被上訴人共同訴訟代理人張哲倫律師答：相對位置是，但因系爭專利說明書 並未有「回收側區」之揭露，故此部分之形容，請鈞院審酌。」 由上述可知，系爭裝置之「斜槽」在空間位置上確實相當於系爭專利請求項1 之「回收側區」，而在此情形下，無論依一般人日常生活所得之通常經驗，或系爭專利 所屬技術領域中具有通常知識者基於專門知識所得之特別經驗，系爭裝置之「斜槽之側 邊液位(C 點)」在空間位置上應即相當於系爭專利請求項1之「回收側區之側邊液位(C 點)」，要無疑義。原審判決在事證如此明確之情形下，竟如此勇猛而仍認為就空間位置 觀之，系爭專利「側邊液位」並無法對應至系爭裝置「斜槽液位」。查，系爭專利說明 書雖未使用「回收側區」一語，惟其係上訴人為便於描述系爭裝置與系爭專利請求項1 之相對位置及空間關係所使用之名詞，並非無中生有，縱被上訴人亦覺心虛而僅敢求原 審斟酌，乃原審蓄意漠視或扭曲事實而採為事實依據，究竟為何？ |
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