民事上訴補充理由狀
案
由：排除侵害、損害賠償等
原審案號：102年度民專上字第38號
原審股別：柏股
上 訴 人：
設：桃園縣龜山鄉萬壽路一段634巷5號
訴訟代理人：蔡清福律師
蔡馭理專利師
蔡律灋律師
事 務 所：道法法律事務所 (電話：25856688分機218)
所
址：臺北市中山北路三段27號13樓
被上訴人：阿托科技股份有限公司(下稱阿托公司)
住
址：臺北市松山區南京東路三段285號4樓
代 表 人：
住
址：同上
被上訴人：通勝電子有限公司(下稱通勝公司)
住
址：桃園縣蘆竹鄉瓦窯村(五福村) 廟口100-7號
代 表 人：
住
址：同上
為當事人間排除侵害、損害賠償等事件，依法提起上訴事：
上訴聲明
一、
原判決廢棄，發回智慧財產法院。
二、
歷審訴訟費用由被上訴人共同負擔。
上訴理由
壹、
原審判決之違背法令之情形，已達重大明顯之程度，且從判決形式上觀察即可輕易得知，令人不可思議！一審判決後，上訴人對於司法正義信心蕩然無存；千迴百轉之後、上訴之初，訴訟代理人曾安慰上訴人，依過去經驗，原審柏股審判長及陪席法官有不錯表現，正義應可得伸張。雖對受命法官所知無多，然在另兩位法官影響下，翻案應屬可期。然自原審判決內容觀之，原審法院故意扭曲、誤會事實之餘，其錯誤適用法律之情節，萬分駭人！未知人心遷變結果，抑或受命法官強力主導結果？原審準備程序期間，上訴人發言之際，受命法官動輒庭上斥囂，未知其中緣故如何？「人在做，天在看」，原審受命法官如有機會目睹此段，其共勉之！
貳、
提起第三審上訴之相關規定及實務見解
民事訴訟法第467條規定：「上訴第三審法院，非以原判決違背法令為理由，不得為之。」第468條規定：「判決不適用法規或適用不當者，為違背法令。」第469條第6款規定：「有下列各款情形之一者，其判決當然為違背法令：六、判決不備理由或理由矛盾者。」
最高法院 79 年度第1次民事庭會議決議(附件一)就上述規定曾表示下列見解，凡習法者，莫不銘記在心或拳拳服膺：
1. 當事人所為之聲明或陳述有不明瞭或不完足者，審判長應依民事訴訟法第一百九十九條第二項規定，對之行使闡明權。當事人所陳述為訴訟標的之法律關係，如有不明瞭之情形，尤須於闡明後使其確定，務使當事人提出之訴訟資料，適於法院裁判。此為審判長之職權，亦為其義務，如未盡此義務，其訴訟程序即有重大瑕疪而違背法令。
2. 第二審法院對於當事人在言詞辯論終結前提出之事實及聲明之證據，足以影響判決基礎者，應於判決理由項下，逐項論列，不得稍有疏略；否則，即有判決不備理由之違法情形。
3. 取捨證據、認定事實，不得違背論理法則、經驗法則及證據法則，否則，即屬違法。
4. 民事訴訟係採辯論主義，除法律別有規定外，法院不得斟酌當事人所未提出之事實。第二審法院如就當事人所未主張之事實，逕依職權予以斟酌，即有認作主張事實之違法。
5. 所謂違背法令，非以違背成文法為限；即判決違背成文法以外之法則，如論理法則、經驗法則、證據法則，仍應認第二審判決確定之事實違背法令：
(1)
所謂論理法則，係指依立法意旨或法規之社會機能就法律事實所為價值判斷之法則而言。
(2)
所謂經驗法則，係指由社會生活累積的經驗歸納所得之法則而言；凡日常生活所得之通常經驗及基於專門知識所得之特別經驗均屬之。第二審法院確定之事實，不得違背經驗法則。
(3)
所謂證據法則，係指法院調查證據認定事實所應遵守之法則而言。法院採為認定事實之證據，必須於應證事實有相當之證明力者，始足當之。若一種事實得生推定證據之效力者，必須現行法規有所依據，亦即以現行法規所明認者為限，不得以單純論理為臆測之根據，而就應證事實為推定之判斷，證據之證明力，應由審理事實之法院依自由心證認定之，並於判決理由項下記載得心證之理由。否則，即為判決不備理由。倘舉證責任分配錯誤、認定事實不憑證據或重要證據漏未斟酌，均屬違背法令。
6. 所謂判決不備理由，凡判決未載理由、所載理由不完備或不明瞭等情形均屬之。所謂判決理由矛盾，係指判決所載理由前後牴觸或判決主文與理由不符之情形而言。
又最高法院29年上字第842號判例(附件二)謂：「判決書理由項下，應記載關於攻擊或防禦方法之意見，民事訴訟法第二百二十六條第三項定有明文，法院為原告敗訴之判決，而其關於攻擊方法之意見有未記載於判決理由項下者，即為同法第四百六十六條第六款所謂判決不備理由。」最高法院30年上字第314號判例(附件三)亦謂：「民事訴訟法第二百二十二條第二項規定，得心證之理由，應記明於判決，故法院依自由心證判斷事實之真偽時，所斟酌之辯論意旨及調查證據之結果，其內容如何，不記明於判決，即為同法第四百六十六條第六款所謂判決不備理由。」
乃原審竟有若不諳前述法律知識，或雖知之，卻不願或不知如何於實際判決時為實踐，致其判決有上述諸多明顯違背法令之情形，茲分述如下。
參、
關於專利有效性之部分：
一、
系爭專利請求項1之主要技術特徵
系爭專利請求項1記載：「一種印刷電路板之銅錫置換方法，其步驟包括：(a)提供一印刷電路板，係具有複數個銅接點；(b)提供一第一槽體，其裝設有複數根水刀，並有一化學錫藥液自該水刀內流出，而形成一水刀式水幕，且印刷電路板被放置於第一槽體中；(c)裝設複數根排水管，係位於第一槽體下方，用以排出藥液；(d)提供一第二槽體，用以從排水管接納藥液；(e)提供一第一泵，係用以將化學錫藥液由第二槽體抽送至第一槽體，且於第一槽體內形成一液位差，並從水刀流出至該印刷電路板上，俾使該銅接點得以被置換成一錫接點。」
由上述可知，誠如被上訴人所分析，系爭專利請求項1之主要技術特徵包括：(A1)第一槽體、(A2)第一槽體內可形成水刀式水幕之複數根水刀、(A3)第一槽體下方之複數根排水管、(A4)第二槽體、(A5)第一泵、(B)化學錫藥液於第一槽體及第二槽體構成之系統中回流及(C)於第一槽體內形成液位差。
二、
兩造不爭執之事項
(一)
系爭專利請求項1 之「液位差」應解釋為「二液位高度之落差」。
(二)
系爭專利請求項1 之「水刀」應解釋為「供化學錫藥液流出並形成水刀式水幕之設備」。
(三)
系爭專利請求項1 之「水刀式水幕」應解釋為「呈現沖刷印刷電路板之水流狀態」。
三、
原審判決誤認系爭專利為新型專利，其判決之草率，由此可見一斑
原審判決第20頁第9行謂：「系爭專利申請日為90年10月23日，經審定准予專利後於91年10月11日公告，發給新型第506239號專利證書。」
惟系爭專利實際上為創作程度較高之發明專利，竟遭原審判決貶低為創作程度較低之新型專利，原審法院是否因內心根深蒂固認為系爭專利只不過是區區一新型專利，而對於系爭專採取不屑一顧之態度？又原審法院歷經三次準備程序及一次言詞辯論程序，並經閱讀兩造之歷次書狀，仍未醒悟系爭專利為一發明專利，則其是否確有用心審理本案及詳閱兩造之書狀，亦引人質疑。原審言詞辯論期日，上訴人曾指稱二十年前，中央標準局（智慧財產局前身）審查員常未提任何證據，逕依主觀偏見指稱某發明不具進步性，而貽笑國際。當時並有審查員認為，凡台灣人民所申請皆屬新型而無資格取得發明專利。雖經此委婉提示，主審本件之原審受命法官仍勇於冒僭一己職責（詳如後述），而瞧不起中華民國國民之發明，或鄙視智慧財產局所核發之發明專利證書，致以新型視之，其心態何其無良？
四、
原審判決認為系爭專利之「水刀」與「水刀式水幕」分別相當於被證9之「歧管」與「噴灑水幕」(原審判決第32頁第3行)，其顯然有下列違背法令之情形
(一)
原審審判長未依民事訴訟法第199條第2項之規定，履行闡明義務，使兩造就系爭專利請求項1之「水刀式水幕」是否相當於被證9之「噴灑水幕」為陳述，竟依殘破不全之技術知識，自認一己乃不世出之天生通才而等同視之，其訴訟程序顯有重大瑕疪而違背法令
在原審準備程序及言詞辯論程序中，受命法官及審判長從未要求當事人就系爭專利請求項1之「水刀式水幕」是否相當於被證9之「噴灑水幕」表示意見(此由原審準備程序筆錄及言詞辯論筆錄即可得知)，即自行草率作成認定，未賦予上訴人就此部分有任何辯論及陳述之機會，率依一己蠻橫與霸道之誤會與偏見，作成偏差認定，其訴訟程序顯有重大瑕疪而違背法令。
(二)
被上訴人從未主張系爭專利請求項1之「水刀式水幕」相當於被證9之「噴灑水幕」，原審法院就此一本狀附件一所指未符辯論主義之認定，顯有本狀附件一所揭認作主張事實之違法
被上訴人在前審均主張被證9之「噴灑歧管」(spray manifold)之水流於「底部」匯集後，可以形成「瀑流」(cascade，通常譯為「溢流」)，是其所主張被證9之「瀑流」係由底部容槽(sump)88流出，再由底部容槽86予以收集，而非由「噴灑歧管」直接自「上方」流出(參見上訴人原審所提出之附圖十一)。因此，被證9之「瀑流」實與被證9「噴灑歧管」之「噴灑水幕」無涉，則原審法院私竊逕自誤認被上訴人所指被證9之底部「瀑流」為上方「噴灑水幕」之餘，未遑遂行辯論核實，豈非本狀附件一所揭認作主張事實之違法？
查，被證9在液面上方之「噴灑水幕」旨在擴散涵蓋區域，而在液面下方之「水刀式水幕」乃求沖刷印刷電路板，此其一；縱必欲指鹿為馬，強行將「噴灑水幕」運用於系爭專利，因噴灑水幕自上方灑落後，將被液面阻隔，而無法形成一足以「沖刷電路板之水流」，此其二，故兩者功能、方式及結果迥然不同，乃冠有「智慧」一詞之原審法院，竟未經辯論而私自認定該「沖刷電路板之水流」為「噴灑水幕」，豈非顯有本狀附件一所揭認作主張事實之違法？
由上述可知，原審法院就被上訴人所未主張之事實，或不存在之事實，或未曾辯論之事項，擅作扭曲主張或認定，顯有本狀附件一所揭認作主張事實之違法。
(三)
原審判決認為系爭專利請求項1之「水刀式水幕」相當於被證9之「噴灑水幕」，其認定事實顯然違背論理法則、證據法則、經驗法則及專利法理，而有違背法令之情形
所謂經驗法則，係指由社會生活累積的經驗歸納所得之法則而言；凡日常生活所得之通常經驗及基於專門知識所得之特別經驗均屬之。
系爭專利請求項1 之「水刀式水幕」應解釋為「呈現沖刷印刷電路板之水流狀態」，此為原審所宣示而為兩造不爭執之事項，故「水刀式水幕」應理解為「沖刷水幕」。然如前述，被證9「噴灑水幕」自上方灑落旨在擴散涵蓋區域，而在液面下方之「水刀式水幕」則在求沖刷印刷電路板，因兩者功能迥異，乃原審等同視之，豈非違背經驗法則？抑且，強行將「噴灑水幕」比擬系爭專利，因噴灑水幕自上方灑落後，將被液面阻隔，而無法形成一足以「沖刷電路板之水流」，因兩者方式及結果顯不相當，乃原審等同視之，豈非昏聵而顯然違背經驗法則？兩者功能、方式及結果既皆迥然不同，乃原審等同視之，豈非違背經驗法則？
此外，「沖刷」與「噴灑」二者之意義，無論依一般人日常生活所得之通常經驗，或系爭專利所屬技術領域中具有通常知識者基於專門知識所得之特別經驗，均不可能認為相同，蓋前者水流之水壓或流速必然較大，後者水流之水壓或流速則必然較小，且前者之水流必然較為集中，後者之水流則必然較為分散。因此，系爭專利請求項1 之「水刀式水幕」或「沖刷水幕」，依據經驗法則，並不可能相當於被證9之「噴灑水幕」。
此外，系爭專利說明書第4頁倒數第6行記載：「大、小孔在鍍錫時可利用裝設在印刷電路板上方及下方之水刀，使藥液從該水刀內快速流出，來沖刷該印刷電路板，並同時達到攪拌該藥液的效果，雖可加速該化學錫藥液之置換銅的過程，唯其所需的時間仍不下11分鐘之久。」又印刷電路板之所以需要經過沖刷，係因其上有許多小孔或盲埋孔，其中會居留空氣，如不藉由水流沖刷以將其中氣泡逼出，則銅錫置換過程將不完全，而影響其加工品質。因此，系爭專利請求項1 之「水刀式水幕」與被證9之「噴灑水幕」顯然有下列不同之處：
1.
系爭專利請求項1 之「水刀式水幕」係「沖刷水幕」，其為「呈現沖刷印刷電路板之水流狀態」，被證9之「噴灑水幕」則僅為「呈現噴灑印刷電路板之水流狀態」。前者著眼沖刷力道，後者著眼濡濕範圍。
2.
系爭專利請求項1 之「水刀式水幕」係位於液面下，被證9未必存有液位；如存有液位，則其「噴灑水幕」亦位於液面上。
3.
爭專利請求項1 之「水刀式水幕」因位於液面下，而可達到攪拌化學錫藥液之功效，被證9之「噴灑水幕」則因位於液面上，而無法達到攪拌化學錫藥液之功效。
4.
爭專利請求項1 之「水刀式水幕」因位於液面下，故化學錫藥液可避免與空氣接觸而獲保全；被證9之「噴灑水幕」則因直接曝露於空氣中，而無法轉用於系爭專利，蓋其轉用之結果將使化學錫藥液瞬間壞死或「急速氧化」。
5.
系爭專利請求項1 之「水刀式水幕」可透過沖刷印刷電路板之作用，達到「提高印刷電路板銅錫置換之品質」之功效，被證9之「噴灑水幕」則無法透過沖刷印刷電路板之作用，達到「提高印刷電路板銅錫置換之品質」之功效。
6.
被證9「噴灑水幕」自上方灑落後，將被液面阻隔，而無法形成一足以「沖刷電路板之水流」，且因在液面上方之「噴灑水幕」旨在擴散涵蓋區域，而在液面下方之「水刀式水幕」在求沖刷印刷電路板，兩者功能、方式及結果迥然不同，童稚可解前者與後者迥然有別。
被上訴人雖辯稱系爭專利請求項1之「水刀式水幕」係位於液面上，惟由系爭專利附圖三(參見上訴人原審所提出之附圖一)可明確得知，系爭專利請求項1之「水刀」係由一圓形長管及一方形長管組合而成，由圓形長管流出之藥液會流入方形長管，再由方形長管下方之開口流出，而形成「水刀式水幕」。圓形長管雖位於液面上，惟方形長管之開口則明顯位於液面下，故系爭專利請求項1之「水刀式水幕」係位於液面下，而具有攪拌化學錫藥液、避免化學錫藥液與空氣接觸及沖刷印刷電路板之特殊功效，要無疑義。原審如就此有疑義，亦應參閱內部證據（說明書及圖式）及外部證據（原審附圖四及五）資以釐清，而非依恣意與率斷胡亂決之（並請詳參後述）。
又原審判決第33頁第14行謂：「上訴人另稱被證9 自「歧管」流出之液體呈現「噴濺」狀態，其與系爭專利杜絕藥液與空氣接觸之前提相違背云云。然系爭專利請求項1 未界定有「杜絕藥液與空氣接觸」相關技術特徵，是上訴人所稱之差異，依無根據。」惟爭專利請求項1 之「水刀式水幕」本係位於液面下，而可避免化學錫藥液與空氣接觸，此為系爭專利請求項1之「水刀」本質上所具有之功效，並無須於系爭專利請求項1中加以界定，蓋申請專利範圍原則上僅須界定特定裝置所具有之結構或特定方法所具有之步驟即可，申請人並無以功效來界定申請專利範圍之必要。況且，系爭專利說明書第10頁第13行亦已揭露：「本發明的主要作用為：……d)可避免藥液(的液面)波動過大，減少與空氣接觸產生4價錫(Sn+4)的機會，以免減少藥液壽命(亦即本案此設計可達到增長藥液壽命三倍之功效)。」故儘可能避免或減少化學錫藥液與空氣接觸，原本即係系爭專利請求項1所欲達到之功效。原審就水刀與歧管之間，或水刀式水幕與噴灑水幕間如存有疑義，亦應參閱內部證據（前述說明書及圖式）及外部證據（原審附圖四及五）資以釐清，而非依恣意與率斷胡亂決之（並請詳參後述法律依據及專利理論論述）。
由上述可知，原審判決認為系爭專利之「水刀式水幕」相當於被證9之「噴灑水幕」，其認定事實顯然違背論理法則、證據法則、及專利法理，而有違背法令之情形。鑑於本狀第壹段及前述各段所載種種怪事，及最近數位法官及檢察官因收受賄賂而入監，原審此一背於童稚能擁判斷能力之不尋常行為，除使易啟人民不當聯想。
(四)
原審判決認為系爭專利請求項1之「水刀式水幕」相當於被證9之「噴灑水幕」，其完全未記載得此心證之理由，則原審判決所載理由顯然不完備或不明瞭，而有判決不備理由之違法
原審判決認為系爭專利請求項1之「水刀式水幕」相當於被證9之「噴灑水幕」，僅草率以一語帶過，完全未交待其得此心證之理由，則原審判決所載理由顯然不完備或不明瞭，而有判決不備理由之違法。鑑於最近數位法官及檢察官因收受賄賂而入監，原審此一異常行為，易啟人民不當聯想。
(五)
原審判決認為系爭專利請求項1之「水刀式水幕」相當於被證9之「噴灑水幕」，其顯然有判決理由矛盾之違法
原審判決一方面認為系爭專利請求項1之「水刀」所形成之「水刀式水幕」相當於被證9之「噴灑歧管」所形成之「噴灑水幕」（或水刀相當於歧管），另一方面卻認為系爭專利請求項1之「水刀」所形成之「水刀式水幕」並不相當於系爭裝置之「湧流排」所形成之「伏流水幕」（或湧流排不相當於水刀；縱使上訴人已舉證被上訴人亦於其發行文書上使用「水刀」字樣（上證七），原審法院仍勇於袒護被上訴人），其就前者採取如此寬鬆之認定標準，只要呈現噴灑印刷電路板之水流狀態，即可認定為「水刀式水幕」，就後者則採取如此嚴格之認定標準，即使系爭專置之「湧流排」與系爭專利請求項1之「水刀」在結構上（甚至名稱，上證七號）幾乎完全相同，且系爭專置之「伏流水幕」亦係於液面下形成，而仍未被認定為「水刀式水幕」，其前後所採取之認定標準顯然不一致。因此，原審判決所載理由顯然前後牴觸，而有判決理由矛盾之違法，難道此為原審法院自創之自由心證方式？鑑於最近數位法官及檢察官因收受賄賂而入監，原審此一嚴厲苛責上訴人而不可思議輕縱或反於事實而袒護被上訴人之反常行為，如何不啟人民不當聯想？
五、
原審判決認為被證10之「第二配管區」相當於系爭專利之「排水管」 (原審判決第33頁倒數第4行)，其顯然有下列違背法令之情形
(一)
原審判決認為被證10之「第二配管區」相當於系爭專利請求項1之「複數根排水管」，其認定事實顯然違背經驗法則，而有違背法令之情形
依原審判決所附之附圖3及上訴人原審所提出之附圖十二可知，被證10之「第二配管區」與系爭專利請求項1之「複數根排水管」顯然有下列不同之處：
1.
被證10之「第二配管區」係位在水平隧道式作業區之下方一段距離，並非直接連接於水平隧道式作業區之下方，系爭專利請求項1之「複數根排水管」則係直接連接於第一槽體之下方。
2.
被證10之「第二配管區」僅有一根與自第一槽體下方直接排水無涉之水管，系爭專利請求項1之「複數根排水管」則有複數根水管(原審判決竟刻意省略「複數根」三字，而認為被證10之「第二配管區」相當於系爭專利之「排水管」，亦令人大開眼界)。原審見影無故開槍之餘，即單、複數亦無能偵其區別，寧非怪事？
由上述可知，被證10之「第二配管區」與系爭專利請求項1之「複數根排水管」兩者，無論依一般人日常生活所得之通常經驗，或系爭專利所屬技術領域中具有通常知識者基於專門知識所得之特別經驗，均不可能認為相同，原審判決認為被證10之「第二配管區」相當於系爭專利請求項1之「複數根排水管」，其認定事實顯然違背經驗法則，而有違背法令之情形。鑑於最近數位法官及檢察官因收受賄賂而入監，原審此一荒唐之公權力行為，易啟人民不當聯想其中必有隱情。
(二)
原審判決認為被證10之「第二配管區」相當於系爭專利請求項1之「複數根排水管」，其所載理由顯然不完備或不明瞭，而有判決不備理由之違法
原審判決第33頁倒數第2行記載：「被證10載有「在第二配管區」中，設有另一幫浦(41)用以循環過濾自水平隧道式作業區(1)內回流之蝕刻用藥水，再送入液體容槽(2)。」
惟仔細觀察上述記載，其實際上僅揭露被證10之「第二配管區」設有一幫浦，得用以循環過濾自水平隧道式作業區內回流之蝕刻用藥水，而並未具體描述被證10之水平隧道式作業區與「第二配管區」間之連接關係為何？乃原審判決曲意附和被上訴人之無中生有，認被證10之水平隧道式下方有排水管之餘，復逕行無端認為不存在之該排水管係直接連接於第二配管區，卻未敘明其理由，寧非荒唐而怪誕？因此，原審判決所載理由顯然不完備或不明瞭，而有判決不備理由之違法。鑑於最近數位法官及檢察官因收受賄賂而入監，原審此一牽強之公權力行為，易啟人民不當聯想其中必有隱情。
(三)
原審判決未記載關於上訴人針對被證10所提出部分攻擊方法之意見，而逕行認為被證10之「第二配管區」相當於系爭專利請求項1之「複數根排水管」，其顯然有判決不備理由之違法
上訴人在原審民事上訴補充理由狀(三)第11頁第8行及原審民事辯論意旨狀第8頁第16行均極力主張：「在系爭專利第三圖之實施例中，除其複數根排水管(X)為原審被證10所無外，系爭專利第三圖連接第二槽體12(透過一泵P)與第一槽體10之連通水管Q、R，乃即相當於原審被證10「第二配管區」之水管，詳如附圖十二所示。」又於102年8月30日準備程序透過庭呈之簡報第19頁，以言詞明確主張：「系爭專利第三圖之第一泵P及連通水管Q、R相當於原審被證10「第二配管區」之泵P'及連通水管Q'、R'。」惟原審判決對於上訴人此足以影響判決基礎，而可輕易破解其迷思之重要攻擊方法，除於開庭之際，蓄意不為傾聽或注意外，且未於判決理由中，加以論列，亦未記載關於上訴人此部分攻擊方法之意見，在毫無隻字片語交待之情況下，即逕行認為被證10之「第二配管區」相當於系爭專利請求項1之「複數根排水管」，其顯然有判決不備理由之違法。鑑於最近數位法官及檢察官因收受賄賂而入監，原審此一漠視上訴人主張而曲意迴護被上訴人之荒唐公權力行為，易啟人民不當聯想其中必有隱情。
六、
原審判決認為被證11明確揭示有「液位差」之技術內容(原審判決第34頁第12行)，其顯然有下列違背法令之情形
(一)
原審判決認為系爭專利請求項1之「液位差」並非「橫向液位差」，被證11之「液位差」亦非「縱向液位差」(原審判決第35頁第1行)，其認定事實顯然違背論理法則，而有違背法令之情形
所謂論理法則，係指依立法意旨或法規之社會機能就法律事實所為價值判斷之法則而言。
專利法第56條規定：「發明專利權範圍，以說明書所載之申請專利範圍為準，於解釋申請專利範圍時，並得審酌發明說明及圖式。」
專利侵害鑑定要點第35頁(二)之1並規定：「為認定專利權範圍之實質內容，發明(或新型)說明及圖式均得為解釋申請專利範圍之輔助依據。發明(或新型)說明之記載事項包含發明(或新型)所屬之技術領域、先前技術、發明(或新型)內容、實施方式及圖式簡單說明等。圖式之作用在於補充說明書文字不足的部分，使該發明(或新型)所屬技術領域中具有通常知識者閱讀說明書時，得依圖式直接理解該發明(或新型)之各個技術特徵及其所構成的技術手段。」
系爭專利請求項1 之「液位差」應解釋為「二液位高度之落差」，此為兩造不爭執之事項，固無疑問。惟系爭專利請求項1之「液位差」應係指「橫向液位差」，其理由如下：
1.
系爭專利請求項1 之「液位差」之解釋，應審酌系爭專利第三圖
依專利法第56條及專利侵害鑑定要點第35頁(二)之1之規定，於解釋申請專利範圍時，得審酌發明說明及圖式，亦即發明說明及圖式均得為解釋申請專利範圍之輔助依據。由系爭專利第三圖可明確得知，系爭專利請求項1 之「液位差」在解釋為「二液位高度之落差」之情形下，應係指「第一槽體中央液位與側邊液位之高度差」。其中「側邊」係指「第一槽體中央兩側之任何位置」，「側邊液位」則係指「第一槽體中央兩側任何位置之液位」，故所謂「第一槽體中央液位與側邊液位之高度差」即係指「第一槽體中央液位與中央兩側任何位置之液位之高度差」。又「第一槽體中央液位與側邊液位之高度差」即為上訴人所稱之「橫向液位差」(與印刷電路板之運行方向垂直之二液位高度之落差)，蓋其與印刷電路板之運行方向垂直。由上述可知，系爭專利請求項1 之「液位差」除應解釋為「二液位高度之落差」外，原審如就上訴人前述主張有所疑問，並應審酌系爭專利第三圖，俾將其正確解釋為「橫向液位差」。鑑於最近數位法官及檢察官因收受賄賂而入監，原審聽不入耳上訴人如此一再辯明，及依專利法理參閱圖式以明此一簡單事實之荒唐公權力行使，易啟人民不當聯想其中必有隱情。
2.
系爭專利請求項1 之「液位差」之解釋，可自系爭專利請求項2清楚得知
系爭專利請求項1記載：「……(e)提供一第一泵，係用以將該化學錫藥液由該第二槽體抽送至該第一槽體，且於該第一槽體內形成一液位差，並從該水刀流出至該印刷電路板上，俾使該銅接點得以被置換成一錫接點。」系爭專利請求項2記載：「如申請專利範圍第1項所述之方法，其中該銅接點為一銅孔或銅襯墊(pad)，而該複數根排水管於排出該藥液同時，於該第一槽體之二側形成一側邊液位，且與該水刀之一中央液位形成該液位差，而該液位差為一40~
由請求項1「於該第一槽體內形成一液位差」與請求項2「於該第一槽體之二側形成一側邊液位，且與該水刀之一中央液位形成該液位差」用語之區別，並審酌系爭專利第三圖可知，請求項1所稱之液位差係指「第一槽體中央液位與側邊液位之高度差」，即「第一槽體中央液位與中央兩側任何位置之液位之高度差」，其包括「中央反應槽之中央液位(A點)與中央反應槽隔板之側邊液位(B點)之高度差」或「中央反應槽之中央液位(A點)與回收側區之側邊液位(C點)之高度差」，而請求項2所稱之液位差則僅係指「中央反應槽之中央液位(A點)與回收側區之側邊液位(C點)之高度差」，惟兩者均為「橫向液位差」，要無疑義。因此，系爭專利請求項1 之「液位差」之解釋，不論自系爭專利請求項2或自系爭專利說明書或圖式，皆可輕易尋繹而得其解釋為「橫向液位差」。鑑於最近數位法官及檢察官因收受賄賂而入監，原審此一漠視事實之荒唐公權力行為，易啟人民不當聯想其中必有隱情。
3.
上訴人雖對於系爭專利請求項1 之「液位差」應解釋為「二液位高度之落差」並不爭執，惟上訴人對於該項解釋之認知及說明自始至終均為「第一槽體中央液位與側邊液位之高度差」或「橫向液位差」，而不包括「縱向液位差」(與印刷電路板之運行方向平行之二液位高度之落差)，屢見在前狀紙及簡報檔陳明，並可自系爭專利說明書之記載(包括申請專利範圍、發明說明及圖式)，輕易探知此一事實。關於系爭專利請求項1 之「液位差」為「第一槽體中央液位與側邊液位之高度差」之相關說明，並請參見上訴人原審民事補充理由狀(二)第16頁第1行。鑑於最近數位法官及檢察官因收受賄賂而入監，原審此一蓄意忽視上訴人再三陳明之荒唐公權力行為，易啟人民不當聯想其中必有隱情。
又被證11雖有揭露「動態液位」或「液位差」之技術特徵，惟被證11之「液位差」係指「縱向液位差」，其理由如下：
1. 由被證11 第三圖(參見上訴人原審所提出之附圖十四)可明確得知，被證11之「液位差」係指「縱向液位差」，而非「橫向液位差」。
2. 被證11之「液位差」係為達到「大量減少處理液體流動之紊流及難以控制狀況」(被證11說明書第10欄第18行)或「確保處理液體流動方向與印刷電路板輸送方向一致」(原審判決第31頁第11行)之功效，然系爭專利之「橫向液位差」則係因結構設計而形成，且其功能與被證11之「縱向液位差」功能委無相涉。
3. 被證11雖有「縱向液位差」，但其藥液與空氣接觸，而系爭專利之藥液不得與空氣接觸，兩者因先天不相容，而無法成為系爭專利之適格引證文件。
4. 被證11因無系爭專利之其他必要元件，如排水管及水刀，故單純意外存有「縱向液位差」亦無以使其適格而得能直接與系爭專利比對，或間接與其他引證文件結合而用以指摘系爭專利之有效性。此乃專利基礎知識，屢見上訴人於原審訴狀或言詞辯明。
由上述可知，原審判決以「系爭專利請求項1 僅載有「液位差」之技術特徵，並未載有「橫向液位差」之文字，說明書亦未有「橫向液位差」之相關技術內容。再者，被證11亦未定義有「縱向液位」之技術內容」(原審判決第35頁第1行)，而認為系爭專利請求項1之「液位差」並非「橫向液位差」，被證11之「液位差」亦非「縱向液位差」，其罔顧本(五、)段所揭諸法規，並忘卻自身應有較佳智權知識，致認定前述事實顯然違背論理法則，而有違背法令之情形。鑑於最近數位法官及檢察官因收受賄賂而入監，原審此一勇於違背一己良知良能而混淆前述事實之荒唐公權力行為，易啟人民不當聯想其中必有隱情。
(二)
原審判決認為系爭專利請求項1之「液位差」相當於被證11之「液位差」，其認定事實顯然違背經驗法則，而有違背法令之情形
如上所述，系爭專利請求項1之「液位差」係指「橫向液位差」。就此上訴人一再辯明事項，如原審有所懷疑或不解，亦應依我民事訴訟法第一百九十九條第二項規定之闡明義務，使上訴人論證，並令兩造就之為辯論，或善體原審法院100年民專訴字第93號「按發明專利權範圍，以說明書所載之申請專利範圍為準，於解釋申請專利範圍時，並得審酌發明說明及圖式，專利法第56條第3項定有明文。」之判決理由，而知曉參閱系爭專利第3圖，即可清楚得知，故其顯然不同於被證11之「液位差」所指「縱向液位差」。此外，系爭專利請求項1之「橫向液位差」係因結構設計原理(第一槽體兩側無液位供給)所自然呈現，而非人為刻意造成化學錫藥液往兩側流動，以「利於化學錫藥液對該印刷電路板進行一銅錫置換的動作」及「大幅縮短印刷電路板銅錫置換所需的時間」；相對於此，被證11之「縱向液位差」則係為人為刻意造成液體之流動，俾「大量減少處理液體流動之紊流及難以控制狀況」(被證11說明書第10欄第18行)或「確保處理液體流動方向與印刷電路板輸送方向一致」(原審判決第31頁第11行)，以「增加處理液體之沉積速率」，兩者顯然為不同之技術功能或結果。因此，原審判決認為系爭專利請求項1之「液位差」相當於被證11之「液位差」，其認定事實顯然違背經驗法則(系爭專利所屬技術領域中具有通常知識者基於專門知識所得之特別經驗)，而有違背法令之情形。鑑於最近數位法官及檢察官因收受賄賂而入監，原審此一勇於漠視上訴人一再澄清，而陰暗無理由認同被上訴人所胡亂主張之荒唐公權力行為，易啟人民不當聯想其中必有隱情。
七、
原審判決未記載關於上訴人針對系爭專利請求項1之進步性所提出部分攻擊方法之意見，而逕行認為系爭專利請求項1不具有進步性，其顯然有判決不備理由之違法
最高法院 79 年度第1次民事庭會議決議(附件一)謂：「第二審法院對於當事人在言詞辯論終結前提出之事實及聲明之證據，足以影響判決基礎者，應於判決理由項下，逐項論列，不得稍有疏略；否則，即有判決不備理由之違法情形。」最高法院29年上字第842號判例(附件二)亦謂：「判決書理由項下，應記載關於攻擊或防禦方法之意見，民事訴訟法第二百二十六條第三項定有明文，法院為原告敗訴之判決，而其關於攻擊方法之意見有未記載於判決理由項下者，即為同法第四百六十六條第六款所謂判決不備理由。」
上訴人於原審時極力主張下列事項，以證明系爭專利請求項1確實具有進步性，惟原審判決對於上訴人足以影響判決基礎之該等重要攻擊方法，並未於判決理由中，逐項論列，亦未記載關於上訴人此部分攻擊方法之意見，在毫無隻字片語交待之情況下，即逕行認為系爭專利請求項1不具有進步性，其顯然有判決不備理由之違法，且違法情節已達重大明顯之程度，令人歎為觀止：
1. 系爭專利乃上訴人研發之嶄新技術、且研發階段或過程之描述並非習用技術，而請求項1之(A2)可形成水刀式水幕之複數根水刀及(C)液位差之要件具有無法預期之功效，故系爭專利請求項1並非所屬技術領域中具有通常知識者所能輕易完成，而具有進步性(上訴人原審民事上訴補充理由狀(四)第7頁第3行及原審民事辯論意旨狀第15頁第7行)。
2. 系爭專利請求項1之可形成水刀式水幕之複數根水刀及橫向液位差為上訴人於開發設計系爭專利之過程中所嘗試採用之相關技術，為其全新首創，並非先前技術(上訴人原審民事上訴補充理由狀(四)第9頁第16行及原審民事辯論意旨狀第16頁倒數第7行)。
3. 關於系爭專利請求項1是否具有進步性之審查，不得以「後見之明」作成不具有進步性之判斷(上訴人原審民事上訴補充理由狀(四)第11頁第3行及原審民事辯論意旨狀第18頁第19行)。
4. 系爭專利請求項1可解決先前技術中長期存在之問題(上訴人原審民事上訴補充理由狀(四)第12頁第16行及原審民事辯論意旨狀第19頁倒數第8行)。
5. 系爭專利請求項1已獲得商業上之成功(上訴人原審民事上訴補充理由狀(四)第13頁第16行及原審民事辯論意旨狀第20頁倒數第8行)。
原審判決在違反專利法規定與理論下，無據違法武斷認為被證9、10、11已分別揭露系爭專利請求項1之(A2)可形成水刀式水幕之複數根水刀、(A3)複數根排水管及(C)液位差等要件之餘，亦未針對上訴人依專利審查基準之規定合法及合理提出而可破除其誤解專利法規之上述各項重要主張，進一步論斷系爭專利請求項1之(A2)、(A3)及(C)等要件之組合是否為上訴人研發之嶄新技術、是否具有無法預期之功效、是否應排除後見之明、是否可解決先前技術中長期存在之問題及是否已獲得商業上之成功等，其有判決不備理由之違法，至為顯然！鑑於最近數位法官及檢察官因收受賄賂而入監，原審此一勇於違背一己長期擔任法官應有之良知良能而為此種離譜之荒唐公權力行為，易啟人民不當聯想其中必有隱情。
肆、
關於專利侵害之部分
一、
原審判決認為系爭專利「側邊液位」並無法對應至系爭裝置「斜槽液位」(原審判決第45頁第3行)，其顯然有下列違背法令之情形
(一)
原審判決認為系爭專利第三圖(參見上訴人原審所提出之附圖一及附圖三)所示之「回收側區之側邊液位(C點)」無法對應於系爭裝置(參見上訴人原審所提出之附圖二)之「斜槽之側邊液位(C 點)」，其認定事實顯然違背論理法則、經驗法則及證據法則，而有違背法令之情形
原審判決第44頁倒數第5行記載：「系爭專利圖式第三圖標示「側邊液位」液面與中央液面，呈現連續平面，且為容置於同一空間之液體，是以中央與側邊液位高度之落差，可增進槽體內液體之流動，進而促進銅錫置換之反應。反觀，系爭裝置之「斜槽」與「預浸槽」，以隔板分離，形成空間上二獨立之區間，兩者之液面並非連續，是縱使「中央液位」與「斜槽」液位有高度上之落差，並無法使增進預浸槽內之液體之流動。換言之，就空間位置與系爭專利發明目的觀之，系爭專利「側邊液位」並無法對應至系爭裝置「斜槽液位」。」上述論斷顯然重大違背論理法則、經驗法則及證據法則，茲分述如下：
1.
原審法院曲解事實及技術
原審判決準備程序期間，完全依己意臆測系爭專利為何，而不依事實或理解上訴人之陳述或解說(例如，一審民事補充理由狀(十二)第貳、二、D段，及一審民事補充理由狀(七)第貳、三、段)，橫向液位差之原由出因水刀之藥液供給不及於中央反應槽之側邊之故，乃原審法院自作聰明之餘，竟自命為難堪之發明人，而背乎發明原理與事實，遂於判決中胡亂認定「系爭專利…是以中央與側邊液位高度之落差，可增進槽體內液體之流動，進而促進銅錫置換之反應」，則原審此種違背論理法則、經驗法則及證據法則之事實認定焉無違法？其為事實認定，既有嚴重偏差或誤謬，則其判決如何可能適法？鑑於最近數位法官及檢察官因收受賄賂而入監，原審此一為袒護被上訴人而罔顧事實、扭曲事實之荒唐公權力行為，焉得不啟人民不當聯想其中必有隱情？
2.
系爭專利請求項1並未將「液位差」限定於連續液面
專利侵害鑑定要點第31頁(一)之1規定：「發明(或新型)專利權範圍，應以公告之說明書或經更正公告之說明書中所載之申請專利範圍為準。」專利侵害鑑定要點第31頁(一)之3亦規定：「專利權範圍主要取決於申請專利範圍中之文字，若申請專利範圍中之記載內容明確時，應以其所載之文字意義及該發明所屬技術領域中具有通常知識者所認知或瞭解該文字在相關技術中通常所總括的範圍予以解釋。」
智慧財產法院100年度民專訴字第93號判決(附件四)謂：「按發明專利權範圍，以說明書所載之申請專利範圍為準，於解釋申請專利範圍時，並得審酌發明說明及圖式，專利法第56條第3項定有明文。而用於解釋申請專利範圍之證據包括內部證據與外部證據。」智慧財產法院100年度民專上更(一)字第4號民事判決(附件五)亦謂：「解釋申請專利範圍是以其中所載之文字為核心，探究該新型所屬技術領域中具有通常知識者於申請專利時所認知或瞭解該文字之字面意義(plain meaning)，除非申請人在說明書中已賦予明確的定義，若申請人無明顯意圖賦予該文字其他意義，該文字被推定為具有通常知識者所認知或瞭解的通常習慣意義(ordinary and
accustomed meaning )。」
專利侵害鑑定要點第30頁第三章第一節規定：「三、解釋申請專利範圍之證據(一)用於解釋申請專利範圍之證據包括內部證據與外部證據。若內部證據足使申請專利範圍清楚明確，則無須考慮外部證據。若外部證據與內部證據對於申請專利範圍之解釋有衝突或不一致者，則優先採用內部證據。」
依上述專利侵害鑑定要點之規定及實務見解，系爭專利請求項1既僅記載「於該第一槽體內形成一液位差」之文字，其記載相當明確，並未將該「液位差」限定於連續液面，且依說明書之記載整體觀察，上訴人亦顯無意圖將該「液位差」限定於連續液面，則系爭專利請求項1之「液位差」應以其所載之文字意義及該發明所屬技術領域中具有通常知識者所認知或瞭解該文字在相關技術中通常所總括的範圍予以解釋，而解釋為「二液位高度之落差」，其並可包括「具有連續液面之液位差」及「不具有連續液面之液位差」，所謂「具有連續液面之液位差」係指第一槽體中央液位與中央兩側任何位置之液位所形成具有連續液面之高度差，所謂「不具有連續液面之液位差」則係指第一槽體中央液位與「第一槽體」內兩側任何位置之液位因隔板或其他原因所形成不具有連續液面之高度差。如原審法院就此有所疑問，亦應善體前揭智慧財產法院100年度民專訴字第93號判決及專利侵害鑑定要點「而用於解釋申請專利範圍之證據包括內部證據與外部證據」指引，而求其真義。查，有如上訴人原審所提出之附圖一及附圖三所示，上訴人所實施之裝置亦有隔板，而此隔板乃實施系爭專利所必然。中央液位乃由隔板拘限而形成，而回收側區則位於第一槽體內隔板之外側。上訴人所實施之裝置即是無比強烈之外部證據，乃原審就上訴人一再之辯明，並就此強烈外部證據不屑一顧，鑑於最近數位法官及檢察官因收受賄賂而入監，原審此一漠視專利法規、法理及判解之荒唐公權力行為，焉得不啟人民不當聯想其中必有隱情？
查，系爭專利第三圖因呈現整部機器，而難以表現細部細節。詳言之，第一槽體內隔板以外兩側回收側區太小，故畫一條示意性質之連續弧線，鑑於上訴人及被上訴人兩造所實施之裝置俱有隔板之強烈外部證據，吾人本不得據此處所示意之連續虛線，而將系爭專利請求項1之「液位差」限定於連續液面。蓋，隔板外之回收側區既僅作藥液回收，又有隔板拘限藥液於中央部份，則涵蓋第一槽體全部之液面必然有一不連續點，此乃極度簡單之物理現象。反面觀之，如上訴人真將該弧線畫成不連續弧線時，原審是否又要認為系爭專利請求項1之「液位差」僅限於兩不連續之A及C兩點液面，而不及於A及B兩點間之連續液面？
由上述可知，原審判決認為系爭專利請求項1之「液位差」限定於其一廂情願所認定之連續液面A及B兩點間，而不及於系爭專利圖3所明示之不連續A及C兩點液面間，其認定事實豈非顯然違背論理法則，而有違背法令之情形？鑑於最近數位法官及檢察官因收受賄賂而入監，原審此一漠視專利法規、法理及判解之刻意出入事實之公權力行為，焉得不啟人民不當聯想其中必有隱情？
3.
系爭裝置之「斜槽」相當於系爭專利請求項1之「回收側區」，故系爭裝置之「斜槽之側邊液位(C 點)」即相當於系爭專利請求項1之「回收側區之側邊液位(C點)」
由系爭專利第三圖(參見上訴人原審所提出之附圖一)可明確得知，系爭專利請求項1之第一槽體內有一中央反應槽，中央反應槽兩側有隔板，隔板外側有齒輪，隔板外側並為回收側區。又由上訴人原審所提出之附圖二(被上訴人所認同)可明確得知，系爭裝置亦有一中央反應槽(即預浸槽)，中央反應槽兩側有隔板，隔板外側有齒輪，隔板外側並有斜槽。故系爭專利請求項1與系爭裝置同樣具有隔板，並以隔板分離「中央反應槽」及「回收側區」或「斜槽」，而形成空間上二獨立但相通之區間，此由上訴人原審所提出之附圖四及附圖
此外，原審判決第36頁第14行記載：「預浸槽下方有一「副槽」，可接納預浸槽中排出之化學錫藥液，另於其外側設有用以將預浸槽溢流之藥液導入副槽之「斜槽，即兩造所稱之回收側區。」實亦已是認前述事實，蓋系爭專利請求項1之第一槽體與系爭裝置中央反應槽(即預浸槽)兩者之兩側均依序存有隔板，而隔板外側有齒輪，且隔板外側俱為回收側區，實童稚能辨。乃原審基於特殊不可告人之原因（位於判決理由中論列），將相對等之兩者視為決然不同，其中究係出因何故？
原審法院就本案之聲請保全證據事件，於102年8月14日作成102年度民聲上字第5號民事裁定(附件六)，其第7頁第8行亦記載：「預浸槽下方有一「副槽」，可接納預浸槽中排出之化學錫藥液，被上訴人自承預浸槽下方具有用以將預浸槽中藥液排出，並流入副槽「排水管」。預浸槽外側具有用以將預浸槽溢流之藥液導入副槽「渠道」，此為上訴人所稱「回收側區斜槽」。」
又被上訴人於原審102年8月6日之準備程序中亦已明確自承系爭裝置之「斜槽」相當於系爭專利請求項1之「回收側區」。當日之準備程序筆錄記載：「法官問：技審官有無問題詢問兩造？技審官問：請兩造說明「回收側區」是否為勘驗筆錄所載之斜槽？上訴人訴訟代理人蔡清福律師答：應該是，就是有斜板之處。被上訴人共同訴訟代理人張哲倫律師答：相對位置是，但因系爭專利說明書並未有「回收側區」之揭露，故此部分之形容，請鈞院審酌。」
由上述可知，系爭裝置之「斜槽」在空間位置上確實相當於系爭專利請求項1之「回收側區」，而在此情形下，無論依一般人日常生活所得之通常經驗，或系爭專利所屬技術領域中具有通常知識者基於專門知識所得之特別經驗，系爭裝置之「斜槽之側邊液位(C 點)」在空間位置上應即相當於系爭專利請求項1之「回收側區之側邊液位(C點)」，要無疑義。原審判決在事證如此明確之情形下，仍認為就空間位置觀之，系爭專利「側邊液位」並無法對應至系爭裝置「斜槽液位」，其認定事實顯然違背經驗法則或證據法則(認定事實不憑證據，或重要證據漏未斟酌，如未斟酌上訴人原審所提出之附圖四及附圖五，或故意不予斟酌)，而有違背法令之情形。此外，系爭專利說明書雖未使用「回收側區」一語，惟其係上訴人為便於描述系爭裝置與系爭專利請求項1之相對位置及空間關係所使用之名詞，並非無中生有，縱被上訴人亦覺心虛而僅敢求原審斟酌，乃原審蓄意漠視或扭曲事實而採為事實依據。鑑於最近數位法官及檢察官因收受賄賂而入監，原審此一公然迴護被上訴人而漠視事實之荒唐公權力行為，焉得不令人民懷疑司法皇后之貞操？
4.
系爭裝置中央反應槽之中央液位(A點)與斜槽之側邊液位(C點)雖非在一連續液面上，乃裝設隔板所必然造成，俾確保銅錫置換反應之進行
系爭專利請求項1之「液位差」係因水刀長度無法及於中央反應槽全寬，故中央反應槽之最側邊(B點)因無藥液供給，致其液位必然較低；而回收側區(C點)因僅在回收自隔板滲漏之藥液，故其液位必然更低。是依系爭專利之設計原理，無論中央反應槽之中央液位(A點) 、中央反應槽之側邊液位(B點)與回收側區之側邊液位(C點)是否在一連續液面上，彼此間必然存在液位差。此為國中學生或系爭專利所屬技術領域中具有通常知識者所可輕易理解，乃原審法院經上訴人一再陳明，卻依然蓄意誤解系爭專利之技術內涵，而執意罔顧此一單純事實，竟認系爭專利「側邊液位」並無法對應至系爭裝置「斜槽液位」，其認定事實豈非顯然違背經驗法則，而有違背法令之情形？鑑於最近數位法官及檢察官因收受賄賂而入監，原審此一罔顧與扭曲事實之荒唐公權力行為，焉令人民信賴司法皇后之貞操？
(二)
原審判決認為系爭專利第三圖所示之「回收側區之側邊液位(C點)」無法對應於系爭裝置之「斜槽之側邊液位(C 點)」，其顯然有判決理由矛盾之違法
最高法院 79 年度第1次民事庭會議決議(附件一)謂：「所謂判決理由矛盾，係指判決所載理由前後牴觸或判決主文與理由不符之情形而言。」
如上所述，原審判決第36頁第14行記載：「預浸槽下方有一「副槽」，可接納預浸槽中排出之化學錫藥液，另於其外側設有用以將預浸槽溢流之藥液導入副槽之「斜槽，即兩造所稱之回收側區。」原審判決第45頁第2行則記載：「就空間位置與系爭專利發明目的觀之，系爭專利「側邊液位」並無法對應至系爭裝置「斜槽液位」。」惟原審判決既認為系爭裝置之「斜槽」，即為系爭專利請求項1之「回收側區」，為何嗣後於判決文中又反於被上訴人之自承，而於判決中認為系爭裝置之「斜槽之側邊液位(C 點)」在空間位置上無法對應於系爭專利請求項1之「回收側區之側邊液位(C點)」，實令人百思不得其解，故原審判決所載理由顯然前後牴觸，而有判決理由矛盾之違法。鑑於最近數位法官及檢察官因收受賄賂而入監，原審此一自行掌嘴之失心瘋公權力行為，焉得不啟人民不當聯想其中必有隱情？
二、
原審判決認為系爭專利請求項1之「水刀」無法對應於系爭裝置之「湧流排」，其顯然有下列違背法令之情形
(一)
原審判決在無任何證據支持下，即逕行認為系爭專利請求項1之「水刀」無法對應於系爭裝置之「湧流排」，其顯然違反證據法則，而有違背法令之情形
最高法院 79 年度第1次民事庭會議決議(附件一)謂：「所謂證據法則，係指法院調查證據認定事實所應遵守之法則而言。……倘舉證責任分配錯誤、認定事實不憑證據或重要證據漏未斟酌，均屬違背法令。 」
原審判決第38頁倒數第11行記載：「系爭裝置「湧流排」雖係供化學錫藥液流出之設備。然由勘驗筆錄及照片，無法判斷自「湧流排」流出之液體狀態為何，不足證明系爭裝置之「湧流排」為系爭專利「水刀」之文義所及，且亦無法證明系爭裝置具有「水刀式水幕」，致應判斷系爭方法，無法讀取系爭專利要件C 之文義。」
原審判決既認為由第一審勘驗筆錄及照片，無法判斷自系爭裝置「湧流排」流出之液體狀態為何，則在液體狀態為何不明之情形下，原審判決如何得出系爭裝置之「湧流排」及「伏流水幕」非系爭專利請求項1之「水刀」及「水刀式水幕」之心證，實令人無法理解。又上訴人在原審時屢次聲請原審法院再次進行勘驗(如上訴人於原審102年8月6日之準備程序中即表示，「原審勘驗不夠確實， 請求再為勘驗。被上訴人所主張系爭方法之湧流排水幕其實與上訴人相同」，並經記明筆錄)，原審法院如認為由第一審勘驗筆錄及照片，尚無法判斷自系爭裝置「湧流排」流出之液體狀態為何，則為何始終不願藉由再次進行勘驗，以釐清相關事實。
由上述可知，原審判決認定事實不憑證據，藉由主觀想像自行臆測系爭裝置不具有「水刀式水幕」，其顯然違反證據法則，而有違背法令之情形。鑑於最近數位法官及檢察官因收受賄賂而入監，原審此一曲意為被上訴人脫責之失態公權力行為，焉得不啟人民不當聯想其中必有隱情？
(二)
原審判決認為系爭專利請求項1之「水刀」無法對應於系爭裝置之「湧流排」，其所載理由顯然不完備或不明瞭，而有判決不備理由之違法
原審判決認為由第一審勘驗筆錄及照片，無法判斷自系爭裝置「湧流排」流出之液體狀態為何，則在液體狀態為何不明之情形下，原審判決完全未交待其如何得出系爭裝置之「湧流排」及「伏流水幕」非系爭專利請求項1之「水刀」及「水刀式水幕」之心證，僅含糊其辭，認為第一審勘驗筆錄及照片尚不足以證明應證事實，則其所載理由顯然不完備或不明瞭，而有判決不備理由之違法。鑑於最近數位法官及檢察官因收受賄賂而入監，原審此一不顧形象以掩護被上訴人無據主張之公權力行為，焉得不啟人民不當聯想其中必有隱情？
三、
原審判決認為依上訴人所提工具所得測量值，須大於(不包含)
(一)
測量值等於準確值加一位估計值
蔡耀智編著之基礎物理(下稱蔡書)第3頁倒數第5行謂：「標準的物理量之數字部分必需包含一組準確值和一位估計值，準確值準確到最小刻度，估計值則估計至最小刻度的下一位。」因此可得出下列公式：
測量值＝準確值(到最小刻度)＋一位估計值(到最小刻度的下一位)
例如，直尺之最小刻度為1公釐(0.1公分)，而測量值為13.78公分，則13.7公分為準確值，0.08公分則為估計值。
(二)
準確值及估計值均為有效數字
梁家鳳及洪登南合著之普通化學(下稱梁洪書)第15頁倒數第4行謂：「所謂有效數字就是準確數字之後，再加一位估計數字而得。在8.00mL表示三位有效數字；每一位數字均有其實驗意義。」詳言之，雖然「標準的物理量之數字部分必需包含一組準確值和一位估計值，準確值準確到最小刻度，估計值則估計至最小刻度的下一位」，惟準確值及估計值均為「有效數字」或「有意義之數字」(significant figure)，而具有統計上之意義。
又梁洪書第16頁第1點就有效數字之位數亦表示：(1)所有非0的數字是有效的。 (2)非0數字間的0有效的。 (3)小數點後的0是有效的。 (4)第一個數字前的0是無效的。
例如，直尺之最小刻度為1公釐(0.1公分)，而測量值為13.78公分，則13.7公分為準確值，0.08公分則為估計值，惟其均為「有效數字」或「有意義之數字」(即有四位有效數字，1、3、7、8均為有效數字)，而具有統計上之意義。
(三)
上訴人於第一審勘驗時所使用量尺之最小刻度為
由上述蔡書及梁洪書之教導可知，如量尺之最小刻度為1公釐(0.1公分)，而測量值為0.10公分，則0.1公分為準確值， 0.00公分則為估計值，惟其均為「有效數字」或「有意義之數字」(即有兩位有效數字，小數點第一位之1及小數點第二位之0均為有效數字，小數點前之0則非有效數字)，而具有統計上之意義。
原審法院於102年8月6日之準備程序筆錄中表示：「102 年1 月4 日 現場勘驗所使用之量尺，「精確度」為「±1 公釐」。」於102年8月30日之準備程序筆錄中則表示：「依勘驗筆錄所載，以上訴人方法所量測之預浸槽中央液位(A點)距離預浸槽槽體頂部之距離分別為：26.3(事實上應專業計以26.30)公分、26.3(事實上應專業計以26.30)公分及26.2(事實上應專業計以26.20)公分。考量液面可能因水流波動等因素而有「隨機誤差」存在，是A 點之數值應以三次測量結果之平均值定之，即，(26.30+26.30+26.20)÷3＝26.27公分。同理，勘驗筆錄中側邊液位(B點) 距離預浸槽槽體頂部之距離分別為：26.3(事實上應專業計以26.30)公分、26.3公分(事實上應專業計以26.30)及26.5(事實上應專業計以26.50)公分，則B 點之數值應為(26.30+26.30+26.50)÷3＝26.37公分。」
原審法院所表示之上述見解基本上應屬正確，即系爭裝置AB之液位差應以中央反應槽隔板之側邊液位(B點)距離中央反應槽槽體頂部距離之平均值(即26.37公分)扣除中央反應槽之中央液位(A點)距離中央反應槽槽體頂部距離之平均值(即26.27公分)所得之數值定之，故系爭裝置AB之液位差即為0.10公分【計算式：26.37－26.27 =0.10】。又因上訴人所使用量尺之「精確度」為「±1 公釐」，即最小刻度為1公釐(0.10公分)，故在最小刻度單位之0.1公分為準確值，在最小刻度單位下一位之 0.00公分則為估計值，惟其均為「有效數字」或「有意義之數字」，而具有統計上之意義。
(四)
量尺之「精確度」為「±
由上述蔡書及梁洪書之教導可知，量尺之「精確度」為「±
查，量尺之最小刻度為
(五)
綜上所述，原審法院在毫無根據之情形下，即違背其於準備程序筆錄中明確向兩造表示之見解，逕行反於其所提出教科書之教導而認為依上訴人所提工具所得測量值，須大於(不包含)
伍、
上訴人於第一審勘驗時曾要求第一審法院正確勘驗，惟並未為第一審法院所採納，故於原審時始屢次聲請原審法院再次進行勘驗
被上訴人於原審時曾指摘上訴人第一審民事補充理由狀(十二)第3頁第3點已然自承對於第一審勘驗並無異議。惟上訴人於第一審勘驗時已當場抗議現場工作人員所指陳系爭裝置之馬達轉速為36或37Hz，乃屬不實，第一審法院卻現場指揮以狀紙論述即可，故第一審勘驗當時顯然並未依第一審法院於勘驗期日前準備程序所諭示者為之，上訴人亦已於第一審民事補充理由狀(十二)第3頁第3點以下明確表示異議，被上訴人及原審判決認為上訴人當日並未提出異議(原審判決第46頁第4行)，實屬無稽。鑑於最近數位法官及檢察官因收受賄賂而入監，原審此一明顯扭曲事實之公權力行為，焉得不啟人民不當聯想其中必有隱情？
又上訴人於第一審勘驗時亦曾要求第一審法院測量系爭裝置之「斜槽之側邊液位(C 點)」（詳參原審勘驗筆錄），惟第一審法院並未實際測量C點之液位，此亦影響上訴人之權益至鉅。
透過再次進行勘驗，可確認系爭裝置「湧流排」流出之液體狀態為何，而證明系爭裝置之伏流水幕即為「呈現沖刷印刷電路板之水流狀態」，並可測量系爭裝置「中央反應槽之中央液位(A點)與斜槽之側邊液位(C 點)之高度差」，而證明系爭裝置確實存有液位差。上述兩點均為判斷系爭裝置是否侵害系爭專利之重要事項，而顯然足以影響判決結果，乃原審法院始終不願再次進行勘驗，其顯有應調查之證據未予調查之違法。又上述兩點均為第一審法院未實際進行勘驗之事項，尤其關於系爭裝置「湧流排」流出之液體狀態為何，更係因原審法院認為系爭專利請求項1 之「水刀式水幕」應解釋為「呈現沖刷印刷電路板之水流狀態」，始出現之爭點，在第一審時，並無此爭點，上訴人當然無從要求第一審法院就此點進行勘驗。因此，上訴人屢次聲請原審法院再次進行勘驗，並非因勘驗結果不利於己，始意圖延滯訴訟，而故為無益之證據聲明(就實際進行勘驗之部分而言，上訴人甚至亦不認為勘驗結果有何不利於己，係因系爭裝置AB兩點液位差之勘驗結果被原審法院曲解，始造成不利)，原審判決之指謫，顯非實在。鑑於最近數位法官及檢察官因收受賄賂而入監，原審此一曲意迴護被上訴人而不願再事勘驗以明事實之失態公權力行為，焉得不啟人民不當聯想其中必有隱情？
陸、
原審判決認為上訴人未舉證證明系爭專利所製成之物品在系爭專利申請專利前為國內外未見，故無法推定被上訴人阿托公司所製造之系爭裝置為以系爭專利所製造，其認定事實顯然違背證據法則，而有違背法令之情形
最高法院 79 年度第1次民事庭會議決議(附件一)謂：「所謂證據法則，係指法院調查證據認定事實所應遵守之法則而言。……倘舉證責任分配錯誤、認定事實不憑證據或重要證據漏未斟酌，均屬違背法令。 」
舊專利法第87條第1 項(相當於新專利法第99條第1項)規定：「製造方法專利所製成之物品在該製造方法申請專利前為國內外未見者，他人製造相同之物品，推定為以該專利方法所製造。」其中「製造方法專利所製成之物品在該製造方法申請專利前為國內外未見」固為發生推定效力所應具備之要件，為關於該要件是否具備，依舉證責任分配之法則，應由該他人就「製造方法專利所製成之物品在該製造方法申請專利前為國內外已見」負舉證責任，而非由專利權人就「製造方法專利所製成之物品在該製造方法申請專利前為國內外未見」負舉證責任。
蓋民事訴訟法第277條規定：「當事人主張有利於己之事實者，就其事實有舉證之責任。但法律別有規定，或依其情形顯失公平者，不在此限。」在一般情形，主張發生「法律上推定」之效力者，固應就其要件負舉證責任，故雖專利法所規定之要件為「製造方法專利所製成之物品在該製造方法申請專利前為國內外未見」，然於系爭專利已經主管機關獲准專利後，即已如此履行初步舉證責任。乃原審法院鄙視智慧財產局之核准處分至此一程度，令人浩嘆！此外，如吾人深一層思考此要件，其乃為「消極要件」，專利權人亦無從舉證（有如刑法上，被告無法證明自己未偷贓品一般），試想專利權人如必須就該要件負舉證責任，則唯一證明方法，必係檢索先前技術，於檢索完畢後，無論有無檢索到申請前有相同之物品，如均告知法院未檢索到申請前有相同之物品，此時專利權人是否已盡其舉證責任？由此可知，如由專利權人就「製造方法專利所製成之物品在該製造方法申請專利前為國內外未見」負舉證責任，依其情形，顯失穩妥，而有民事訴訟法第277條但書規定之適用，亦即此時應由該他人就「製造方法專利所製成之物品在該製造方法申請專利前為國內外已見」負舉證責任，始稱允當。此外，受命法官似乎不以充任法官為已足，而亟欲同時扮演超級專利審查員角色。於被上訴人所未提及之專利進步性之功及防禦方法，受命法官假扮自己為超級審查員，一併代被上訴人提出而據為認定系爭專利不具進步性之攻擊防禦方法。受命法官嗜任專利審查員似乎遠勝法官，不知為何不思轉換人生跑道，以伸抱負？
原審判決第44頁第5行謂：「上訴人主張被上訴人侵害系爭專利方法部分，其應先舉證證明：(1)符合該製造方法直接製得之物品於申請專利前為國內外未見者；(2)被上訴人製造之物品同於該製造方法直接製得之物品。上訴人已盡舉證責任，始有推定之適用，而生舉證責任倒置之結果，否則仍須由主張責任原因成立之上訴人，就被上訴人侵害其所有之系爭方法專利權，負舉證之責任(參照最高法院98年度台上字第367 號民事判決)。」原審判決之上述論斷顯然有下列謬誤之處：
1.
「系爭專利所製成之物品在系爭專利申請專利前為國內外未見」業經系爭專利之獲准而完成初步證明，因此自然發生舉證責任倒置之結果；且其為「消極事實」，上訴人根本無從舉證，如由上訴人就該事實負舉證責任，依其情形，顯失公平或穩妥，故依民事訴訟法第277條但書之規定，此時因系爭專利獲准乙事之初步舉證責任完成，應由被上訴人一舉證責任倒置法理，就「系爭專利所製成之物品在系爭專利申請專利前為國內外已見」負舉證責任，始稱公平。
2.
原審判決意圖混淆視聽，刻意將最高法院98年度台上字第367 號民事判決(附件七)移花接木於其上述論斷後，而欲藉此強加舉證責任於上訴人。惟如仔細閱讀該判決，可發現其中根本並未有隻字片語提及專利權人必須就「製造方法專利所製成之物品在該製造方法申請專利前為國內外未見」負舉證責任。事實上，該段「(參照最高法院98年度台上字第367 號民事判決)」之文字應移列於原審判決第44頁第4行末，始能反映該判決之意旨。
由上述可知，原審判決認為上訴人未舉證證明系爭專利所製成之物品在系爭專利申請專利前為國內外未見，故無法推定被上訴人阿托公司所製造之系爭裝置為以系爭專利所製造，其認定事實顯然違背證據法則(舉證責任分配錯誤)，而有違背法令之情形。鑑於最近數位法官及檢察官因收受賄賂而入監，原審屢代被上訴人提出未經辯論之新攻擊防禦方法之荒唐公權力行為，焉得不啟人民不當聯想其中必有隱情？
柒、
乍聞上訴人「不當聯想其中必有隱情」， 鈞院或覺突兀，或心生上訴人或因敗訴而心生不甘，致有此情此語。然於 鈞院仔細理解本狀各段所述曲直後，或亦將與上訴人心有同感。蓋，所謂「事出必有因」，如無外在干涉因素，一有豐富審判經驗之人如何可能於每一段落皆出現嚴重違背論理法則、經驗法則或證據法則、背反其所提出書籍之教示、判決理由矛盾、違背或曲解專利法令、及/或違背訴訟程序法令等違法情事。如此鬼影幢幢情節，於上訴人聽聞媒體所為最近數位法官及檢察官因收受賄賂而入監之報導，尚存人性者，能不啟不當聯想其中必有隱情之情愫乎？
捌、
懇請 鈞院鑒核，賜判決如上訴聲明，以維法制，實感德便。
附件
附件一：最高法院 79 年度第1次民事庭會議決議。
附件二：最高法院29年上字第842號判例。
附件三：最高法院30年上字第314號判例。
附件四：智慧財產法院100年度民專訴字第93號判決。
附件五：智慧財產法院100年度民專上更(一)字第4號民事判決。
附件六：智慧財產法院102年度民聲上字第5號民事裁定。
附件七：最高法院98年度台上字第367 號民事判決。
謹 狀
智慧財產法院民事庭 轉呈
最高法院 公鑒
具狀人：李珵誼先生
訴訟代理人：蔡清福 律師
訴訟代理人：蔡馭理 專利師
蔡律灋 律師
訴訟代理人：事務所：道法法律事務所
訴訟代理人：所 址：臺北市中山北路三段27號13樓
訴訟代理人：電 話：(02)25856688 分機900
中華民國一○二年十一月十五日