102年3月號 道 法 法 訊 (251) |
DEEP & FAR |
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2010年專利改革法案(完) 由：John R. Bednarz |
王聖婷
專利工程師 •成功大學工程科學系 •成功大學工程科學所 |
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美國專利商標局(USPTO)接著將在12個月內完成這個程序。為了能更進一步改善專利品 質，第3人能在美國專利發佈之前提交先前技術。為了在訴訟中，努力改良不公平行為主 義並且減少不公平行為指控的濫用，一個專利權人亦可從事「補充審查程序」，其允許美 國專利商標局「考慮、重新考慮或改正被認為與該專利相關的資料」。 美國專利商標局亦將被提供權力去更改它的費用，只要這個費用為「總集以彌補當局用於 專利及商標相關的個別訴訟程序、活動、服務以及材料的預估費用」。 以前的法案已包含對專利侵權賠償的規定提出徹底改變。目前許多公司認為專利損害賠償 金額過高，且專利為阻礙創新而非驅動創新。然而，過去的專利改革法案中的先前損害規 定已被證明為最具有爭議的。專利改革法案2010嘗試去抑制不一致與不公平合理的權利 金損害賠償。根據擬議的修改，當事人「陳述，以書面且特別地，當事人擬議的方法論與 因素用於指示決定賠償金的陪審團…指出他們主張的相關法律和事實基礎。」 如果這些法案的其中一個會通過，它們可能會在今年後期的國會跛腳鴨會期間通過。然 而，對這兩個法案仍然有實質上的反對意見存在，因此也十分有可能這兩個法案均無法成 為法律。專利改革十分有可能將在專利改革法案2011再一次重新開始。 (完) |
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